Acetato de 4-etenilfenol CAS 2628-16-2

O P-acetoxiestireno pode ser utilizado para sintetizar o poliapara-hidroxiestireno como componente principal de uma fotorresistente (fotorresistente). As séries de poli-p-hidroxi-estireno de fotorresistores quimicamente amplificados são atualmente os principais produtos foto-resistentes do mundo, e são uma das principais tecnologias para o processamento de circuitos integrados de foto-gravação e fabricação de chips. A tecnologia de foto-corrosão é desenvolvida a partir da produção de 0,3-0,28μm de largura de linha até a luz ultravioleta profunda (comprimento de onda 248nm) para produzir 0,18μm de largura de linha, e a luz ultravioleta ultra-profunda (comprimento de onda 193nm) pode ser usada para traçar largura da linha a 0. microcircuito de 11 μm. O fotorresistente de 248 nm normalmente usa o derivado de poli-p-hidroxiestireno como resina filmogênica, sal de aril iodônio ou sal de sulfônio como gerador de fotoácido, usando tecnologia de amplificação química para liberar o gerador de fotoácido sob luz O ácido catalítico então catalisa a reticulação do polímero ( gelificação negativa) ou a reação de desproteção (gelatinização positiva), aumentando assim a fotossensibilidade.